技术编号：2682227
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种新型的吸收性底部抗反射涂料组合物(BARC)。所述抗反射涂料组合物包括两种聚合物的共混物，其选择为赋予BARC疏水性酸性顶层。本发明进一步涉及一种用于使在新型抗反射涂料上涂覆的光刻胶成像的方法。光刻胶组合物用于生产小型电子组件的显微光刻法(microl ithographyprocess)，例如用于计算机芯片和集成电路的制造。通常，在这些方法中，将光刻胶组合物膜的薄涂层首先施涂于基材材料(例如用于生产集成电路的硅基晶片)上。然后，烘烤涂覆的基...
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