技术编号：2682906
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般地涉及一种光刻系统。更具体地说，本发明涉及对光刻系统中的反射镜上的光化(actinic)热负载进行管理的方法。背景技术 光刻(lithography)是用于在基底表面上产生特征图形的方法。这种基底可以是在制造平板显示器、电路板、各种集成电路等时使用的基底。这些应用中经常使用的基底是半导体圆片。相关内的熟练技术人员明白，本说明也适用于其它类型的基底。在光刻过程中，利用位于光刻系统内的曝光系统对使放置在圆片台上的圆片曝光于投影到其表面上的图像。曝光系...
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