技术编号：2682912
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微光刻法，更具体说，是涉及用于微光刻法设备的有高数值孔径的照明系统。背景技术 光刻法(亦称微光刻法)用于制造半导体器件。光刻法使用电磁辐射，如紫外(UV)、深UV、或可见光，在半导体器件设计中产生精细的图。许多种半导体器件，如二极管、三极管、和集成电路，能够用光刻技术制作。在半导体制作中，用曝光系统或设备来实施如蚀刻的光刻技术。曝光系统通常包括照明系统、含有电路图的掩模版(亦称掩模)、投影系统、和用于对准涂覆了光致抗蚀剂的半导体晶片的晶片对准台。...
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