技术编号：2683071
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体行业和印刷电路板行业光刻，属于光刻机曝光系统图形数据的灰度处理方法，特别是使用空间光调制器的直写式光刻机灰度曝光系统或者激光直写曝光系统(LDI)的数据处理方法。背景技术光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图。这样的衬底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、印刷电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的芯片。在传统的光刻过程中，基底放置在承载台上，通过处在光刻设备内的曝光装置，将特征构图投射到...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。