一种曝光修正补偿方法技术资料下载

技术编号:2683191

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本发明属于太阳能电池基板的曝光,尤其涉及。_背景技术曝光(exposure)技术就是在基板上覆盖一层具有感光材料(photo-sensitivematerial)的光阻层(photoresist layer),然后光源发出的平行光经过光罩照射到该光阻层上。简单地说曝光就是平行光经过光罩而使光罩上的图案完整地转移到光阻层上。但实际在后续的生产环节显影、电铸或者蚀刻时图形会因为液体冲击、温度等因素而产生变形,造成偏差。因此,要想得到合格的产品尺寸,就需要对此进...
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