技术编号：2683192
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于掩模板的制造加工，尤其涉及。背景技术掩模板的一般制程，主要是依据图形设计的需求，反复进行成膜，制版、蚀刻/电铸、褪膜、剥离等不同的模块操作，经由数个步骤后完成具有所需开口图案的掩模板。制版工序一般包括贴膜、曝光、显影等工艺。制版工序的要项为贴膜均匀度、干膜结合力、对位精度控制、线宽损失值、影响残留等。虽然制版工序的制成技术复杂，但其基本原理却简单。首先是在基板表面上覆上一层感光干膜，通过曝光机扫描曝光的方式直接将所需的开口图案转移到感光干膜上，然...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。