技术编号：2683473
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及楔形膜制作的，特别涉及。背景技术现有技术1 采用镀介质膜的方法制作楔形膜。该方法的工艺过程是首先，在光学基板上镀制半透半反膜，然后在半透半反膜上镀楔形介质膜，最后在介质膜上镀一层半透半反膜，从而形成斐索干涉仪中的楔形膜。该方法的缺点是一、镀厚度在5μπι-40μπι间线性变化的介质膜，其控制难度大，成功率低；二、厚度较厚的介质膜由镀膜机的真空环境中取出时，在空气中受到湿度和内应力的影响，容易产生褶皱而损坏；三、镀制介质膜的设备昂贵，镀40 μ m...
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