技术编号：2683729
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于光束传输领域，特别是涉及一种光束传输稳定装置。背景技术光学投影光刻是利用光学投影成像原理，将掩膜上的集成电路(IC)图形以分步重复或步进扫描曝光的方式将高分辨率的图形转移到涂胶硅片上。图1所示为光学投影光刻系统，其主要包括光束扩束整形系统3，光束传输系统4，光刻照明系统5，掩膜6，光刻物镜7，硅片8。光束2由提供辐射光能的光源1发出，依次经光束扩束整形系统3，扩束整形的光束2，光束传输系统4后进入光刻照明系统5，光刻照明系统5为掩膜6提供光束...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。