技术编号：2683759
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及透镜成像，更具体地说，涉及一种用以减轻透镜加热效应的透镜成像方法。背景技术光刻投影(lithographic projection)是一种将光束(通常取自激光(laser))通过光掩膜(photo mask)投射在瞳孔镜头(pupil lens)内，再通过透镜(即上述的瞳孔镜头)投射到晶片(wafer)上的技术。关于此技术的应用，举例来说，可用来印刷(print)集成电路(integrated circuit,1C)。此外,所使用的光掩膜与特定照...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。