技术编号：2685662
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及具备曝光装置的成像装置，该曝光装置中设有发光二极管(LED)阵列等写入光源，进而，本发明还涉及用于该成像装置的成像方法。背景技术发光二极管阵列例如可用于作为成像装置的写入光源。但是在实际使用中发光二极管阵列会出现以下问题，如长期使用或者机器设备设置环境所造成的发射光量减少，以及机器设备的高温设置环境所造成的发射光量变动等问题。进而，这些问题的发生还将引起光量分布偏差，从而致使图像质量下降。 针对上述问题，现有技术例如专利文献I (JP特开平9-3...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。