技术编号：2685669
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻领域，光学成像领域和信息存储领域。背景技术随着微纳技术的飞速发展，光存储技术，光刻技术，光学成像技术，光学制造技术都面临着突破衍射极限的问题。通过缩短激光波长到GaN激光器的405nm和增大光学头的数值孔径到0. 95，由衍射光斑大小公式D = 0.61 A /N. A.衍射光斑也只能达到0. 5 y m左右，在采用可见光波长和远场光学系统下，依靠传统的缩短激光波长和增大光学头的数值孔径的方法已经走向极限。如何打破光的衍射极限使光斑达到纳米量...
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