技术编号：2686232
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种，属于光刻。背景技术在球面光学元件上加工微细图形由光刻工艺来实现，其工艺步骤为，在光学元件的表面涂布一层厚度均匀的光刻胶膜，然后曝光、显影及刻蚀，得到所需微细图形。所述球面光学元件包括凸球面光学元件和凹球面光学元件。申请号为200810050936. X的一件中国发明专利申请公开了一项名称为“凹球面光学器件旋涂光刻胶的方法”的技术方案，该方法是在凹球面光学器件开口向上并静置的状态下，将光刻胶注入到凹球面的中心处，然后立即将凹球面光学器件转为开...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。