技术编号：2686908
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于干涉光刻领域，尤其涉及一种双光束干涉光刻方法和系统。背景技术多台阶结构是一种典型而又基本的三维结构，在半导体、微光学器件、微机电系统(MEMS)以及平板显示等诸多领域具有广泛应用。在这些应用场合，多台阶结构的台阶数目、尺寸精度和表面粗糙度的要求都很低台阶数目一般为2到4台阶，台阶高度尺寸的精度要求约在零点几微米到几微米，台阶表面粗糙度要求约在零点几微米。在加工方法上，可以采用掩膜光刻和激光直写等多种方法实现。但是，对于一些特殊的应用领域，例如光学...
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