技术编号：2686949
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明的主要涉及用于设计与光刻过程相关的量测器(gauge)图案的方法、系统和程序产品，更具体地涉及对响应于光刻参数变化的量测器图案的计算上有效的设计。背景技术例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，掩模可以包含对应于IC的单层的电路图案，并且该图案可以被成像到已经涂覆有辐射敏感材料(抗蚀齐IJ)层的衬底(硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或更多个管芯)上。通常，单个晶片将包含通过投影系统一次一个地连续地被照射的相邻目标部分的整个...
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