技术编号：2687218
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于极紫外光刻领域，具体涉及一种提高极紫外光谱纯度的新型多层膜。背景技术极紫外光刻是最有可能实现22nm技术节点的下一代光刻技术。极紫外光刻系统使用波长为13. 5nm，在此波段，大多数材料的吸收系数都很高，所以只能采用全反射式系统。为了进一步缩短曝光时间，提高产量，需要在光学元件上镀制高精度多层膜以提高反射率。极紫外波段优选镀制的多层膜是周期数为40-60、周期厚度为6.9-7. 2nm的Mo / Si多层膜。该周期性Mo / Si多层膜虽然在13...
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