技术编号：2690015
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于半导体领域，涉及ー种显影过程中的装置，尤其涉及ー种新型显影处理单元结构。背景技术集成电路制造技术随着摩尔定律快速向前发展，在关键尺寸的不断縮小的同时，对于光刻胶的要求也越来越高，因此对于定义不同的图形时就需要研发出不同特性的光刻胶，而不同特性的光刻胶对于显影液的反应特性又随之不同，从而对于传统的DEV(develop，显影)nozzle (喷嘴)的运动方式而言，出现ー个⑶U (特征尺寸均匀性)的问题，对于不同的光刻胶，甚至不同层次需要研发出不同的...
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