技术编号：2690082
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及193nm光刻 设备，特别是一种用于193nm浸没光刻设备产生所需偏振状态的193nm熔石英光栅起偏器及其在光刻设备中的应用。背景技术在193nm浸没光刻设备中，偏振照明已经成为提高光刻系统分辨率、增大焦深和改善光刻对比度不可缺少的光刻分辨率增强技术。采用偏振照明的主要目的是实现掩模板对照明光场产生的衍射光束在硅片上的干涉叠加光场的对比度增强。对于高数值孔径的浸没光刻设备，偏振照明显得尤为重要。现阶段，193nm浸没光刻设备的照明光场的偏振状态主...
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