技术编号：2690125
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明具体涉及一种，属于光刻机对准控制领域。背景技术直写式光刻机的对准控制系统，是通过空间光调制器(SLM)，将照明光源反射到待加工面上，然后使用图形传感器(CCD)采集待加工面上的反射光获取对准图形信息，然后通过获取的图形信息计算出图形中心坐标。根据待加工面上的多个对准图形中心坐标计算出待加工面相对于光刻机运动平台的偏移量，并在曝光系统中给予补偿。直写式光刻机是半导体生产过程中曝光工序必需设备，且在半导体生产过程中包含了多道曝光工序，而每道曝光工序对应一...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。