技术编号：2690444
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于微纳器件制造领域，具体涉及到一种以金属玻璃为光刻胶的光刻方法，对金属玻璃进行光刻的相变光刻系统以及系统中对相变材料相变程度进行检测的检测部件。背景技术在目前的半导体器件、光盘的母盘、传感器、光电子器件、微电子机械系统器件等的制造过程中，毫无疑问的都有纳米孔径的制备此步骤，到目前位置，制备纳米孔径的方法主要有以下三种(I)电子束光刻(EBL);(2)聚焦离子束光刻(FIBL)；(3)光刻法(PU;由于电子束光刻技术(EBL)和聚焦离子束光刻技术(F...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。