技术编号：2693478
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及ー种双面光刻装置，具体地说，涉及ー种方便调节对准的双面光刻机械装置。背景技术目前，国内通用双面光刻エ艺采用是投影曝光和红外对准双面曝光エ艺。这两种光刻机的价格昂贵，维修成本较高，不适于低成本大功率半导体器件。大功率双向可控硅及大功率瞬态电压抑制ニ极管等半导体分立器件有着广泛的市场需求。实用新型内容本实用新型正是为了解决上述技术问题而设计的一种双面光刻装置。 本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是—种双面光刻装置，包括光刻机、双面对准光刻版...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。