技术编号:26945039
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及光学改性领域,尤其涉及一种透明二氧化硅增透膜镀膜工艺。背景技术.增透膜又称减反射膜,即在光学元件表面上镀光学薄膜,用于减少光学元件表面的反射,增加光线的透过率,从而提高光学元件在工作波长或波段内的性能,因此在光学元件上加镀增透膜是十分必要的。.目前,用于增透的镀膜材料主要为二氧化硅,通过在光学元件表面镀上一层二氧化硅后能够有效提升光线的透过率。其制备方法最简单的为溶胶凝胶法,其具有操作简单、成本低、适用于不规则表面和大规模工业化生产等优点,特别是多孔薄膜的折射率可以大大低于相应...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。