技术编号：26945975
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及一种利用处理流体在腔室内对基板进行处理的基板处理装置。背景技术.半导体基板、显示装置用玻璃基板等各种基板的处理工序包括利用各种处理流体对基板表面进行处理的工序。以往，将药液或冲洗液等液体用作处理流体的处理被广泛应用，但近年来，使用了超临界流体的处理也得到了应用。尤其是在表面上形成有细微图案的基板的处理中，表面张力低于液体的超临界流体因为能够进入图案的间隙深处，所以能够高效地进行处理，另外，还能够降低干燥时由表面张力引发的图案倒塌的风险。.例如日本特开‑号公报...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。