技术编号:26947642
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明属于半导体制造技术领域,具体涉及一种半导体硅片表面液体清理设备。背景技术.硅片传输分系统是光刻机的主要分系统,主要负责将片库或匀胶显影机中涂完光刻胶的硅片传入工件台进行曝光处理,然后将处理后的硅片输送到指定位置。由于浸没式光刻设备中,硅片处于工件台正常生产时上表面会被浸液覆盖,如果在涂胶之前不进行清理,会影响后续芯片的质量,因此需要对曝光后的硅片需要进行清洁。现有的存在一些装置通过气压吹去晶圆表面的残余液体,但是由于硅片表面黏性较大,硅片表面液体容易向四处分散,且该种方式容易将液体从...
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