技术编号：2695317
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及作为抗蚀材料的光产酸剂等适合使用的新型具有含氟碳负离子结构 的盐及其衍生物、光产酸剂以及使用其的抗蚀材料和图案形成方法。背景技术近年来，伴随LSI的高集成化和高速度化，图案规则(patternrule)的微细化正急 速发展。该背景中，通过曝光光源的短波长化、例如从汞灯的i射线(365nm)向KrF准分子 激光(248nm)的短波长化使得64M比特(加工尺寸为0. 25 μ m以下)的DRAM (动态随机存 取存储器、Dynamic Random ...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。