技术编号：2695377
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明针对分子抗蚀剂组合物、使用该分子抗蚀剂组合物对衬底进行图案化的方 法以及通过加工形成的产品。背景技术图案化表面的方法是已知的并且包括光刻技术，以及最近发展的软接触打印技 术，例如微接触打印(参见，例如美国专利No. 5，512，131)。在微接触打印中，使用弹性模具 将一个自组装单层(“SAM”)沉积在衬底上。制备具有横向尺寸小至40nm的SAM。SAM能 被用作为一种抗蚀剂以在衬底上形成一个特征，例如，通过蚀刻未被SAM覆盖的衬底的一 部分。但是，...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。