技术编号：2695632
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于半导体制造光刻领域，尤其涉及一种基于空间光调制器的无掩膜曝光系统。背景技术光刻是半导体制造行业最关键的技术之一，其曝光技术可分为传统光学曝光、电子束曝光、离子束曝光和X射线曝光等。其中，传统光学曝光技术中的接触式曝光可以获得较高的分辨率，但掩膜版和晶片之间重复接触的结果是在掩膜版上产生缺陷，这些缺陷将被重复复印到晶片上，导致产品的良率下降；接近式曝光虽然避免了接触式曝光中产生的缺陷问题，但由于间隙的增大却带来了分辨率的急剧下降；投影式曝光利用...
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