技术编号：2696799
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种，由于在透明基材的上表面形成有透光的光致超亲水性薄膜，如二氧化钛光催化薄膜，借助该光致超亲水性薄膜其在光的照射下具有超亲水性，在薄膜表面形成的水膜可以溶解环境中的氨气、二氧化硫等污染气体，因此避免结晶体的产生，可以从根本上解决光罩出现雾状缺陷的问题，提高半导体晶圆的良率。专利说明[0001]本发明涉及半导体器件制造领域，尤其涉及一种。背景技术[0002]光罩(Mask)普遍用于半导体制造的光刻(Photolithography)工艺中，用于...
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