技术编号：2698691
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光机电设备，特别是关于一种。背景技术 光刻装置(光刻机)是将掩模上的图形以一定的比例转移到要加工的对象上(如硅片等)的曝光装置，请参照图1，图1为光刻机结构示意图。在这种曝光装置中，需要使被曝光的对象的相应表面保持在曝光装置中的投影物镜的焦深范围之内；这就需要一个测量系统来测量加工对象的相应表面相对于投影物镜最佳焦平面的相对位置。这一测量系统在光刻机中被称为调焦调平系统。随着集成电路的集成度的急剧增加，要曝光的线条越来越细也越来越密，投影物镜的分...
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