技术编号：2700251
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提出一种用于光刻设备的硅片对准光源系统，其特征在于包括光源模块，光强调制模块，光纤模块，光电探测模块，AD采集模块，相位调整模块，控制模块以及对准探测模块；所述光源模块发出的光经过所述光强调制模块幅度调制，并通过所述光纤模块后一路进入所述对准探测模块；另一路经过所述光电探测模块进行光电转换，所述AD采集模块采集和所述相位调整模块校准后，经过所述控制模块对所述光强调制模块进行控制。本发明提出的基于光源内部幅度调制的硅片对准光源系统，对光源的波动量进行调...
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