技术编号：2700627
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了一种，该装置设于浸没头与硅片之间，在浸没头、硅片及浸没式光刻机的物镜之间的空间中填充有供浸没式光刻所用的浸液，所述光刻机浸没流场维持装置包括光电导层、第一绝缘层，依次设置于所述浸没头表面；第二绝缘层，设置于所述硅片表面，所述硅片表面与所述浸没头表面相对；偏置激励电压，施加于所述光电导层与所述硅片之间，于所述浸液两端产生外加激励电压；所述光电导层、第一绝缘层、浸液、第二绝缘层、硅片和偏置激励电压形成一个电压回路，并基于光电润湿原理，通过对该电路中...
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