技术编号：2700945
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种适用于高科技半导体、面板制造产业等需使用光罩产业的工 艺，具体涉及废弃光罩经去除金属铬膜后，加以回收再生利用的方法。背景技术光罩(Photo Mask)是一种利用电子束曝光系统将铬膜上的图形制作在玻璃或 石英上的工具，该玻璃或石英上含有铬膜(Cr)之处是光无法透过去的。以光罩使用于半导体工厂的制造过程为例，半导体或晶圆制造过程是由数百道 至上千道的工艺所构成，重复着影印法、溶蚀、薄膜、扩散、离子植入等等过程。 光罩就是使用在影印法工艺(Pho...
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