技术编号：2701264
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种用于光刻设备的真空声噪隔离系统，其特征在于，包括一真空腔体，该真空腔体内至少包括该光刻设备的掩模、投影物镜及工件；一真空执行装置，用于对该真空腔体进行抽气；一真空检测装置，用于实时监控该真空腔的真空度；一形状记忆合金金属密封圈，用于密封该真空腔体。专利说明用于光刻设备的真空声噪隔离系统 [0001]本发明涉及一集成电路装备制造领域，尤其涉及一种用于光刻设备的真空声噪隔尚系统。 背景技术 [0002]光刻设备是一种将所需图案应用到衬底...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。