技术编号：2702164
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种极紫外光刻机光源中液滴靶空间位置的监控系统，包括二个探测光源、二个四象限光电探测器、信号处理器、信号控制器和二维电位移台；二维电位移台用于放置喷嘴，设液滴喷嘴喷射方向为Z轴，第一探测光源和第一四象限光电探测器配合用于检测X方向的偏移，第二探测光源和第二四象限光电探测器配合用于检测Y方向的偏移；第一四象限光电探测器和第二四象限光电探测器分别与信号处理器电连接，信号处理器将四象限光电探测器的输出信号进行处理后反馈给信号控制器用于对二维电位移台进...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。