技术编号：2703452
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种。该结构由介质光栅和与介质光栅相复合的一维周期性多层膜结构组成，介质光栅的占空比为11，其周期为100纳米～1微米；介质光栅的凹部空隙处沉积有与光栅折射率不同但高度相同的介质材料；多层膜结构由两种不同的介质材料交替组成。其主要制作步骤为1）离子束辅助电子束蒸发镀膜技术在衬底上制备周期性介质多层膜光子晶体；2）纳米压印技术、反应离子刻蚀工艺、电子束蒸发镀膜、举离技术等在介质多层膜上制备一维填充型介质光栅。本发明的制备方法便捷可靠，该结构能有效...
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