技术编号：2707403
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及光学系统设计领域，特别涉及一种铜冶炼过程发射光谱分析系统的导入光学装置，包括设置在镜筒内的透镜、平面反射镜以及反射镜，所述的透镜布置在镜筒前段或中段位置处，光线自镜筒的前端进入，镜筒的后端布置所述的平面反射镜，平面反射镜将经过透镜聚集的光线反射至透镜一侧，透镜靠近平面反射镜的一侧或透镜的周边相邻布置所述的反射镜用于接收平面反射镜反射的光线，反射镜相对应位置处的镜筒筒壁上开设通孔用于布置光纤。入射光线依次经过透镜、平面反射镜、反射镜后聚焦在光纤...
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