技术编号：2709185
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。曝光装置具有光调制元件阵列，其二维地排列有能够根据姿势变化来切换光的反射方向的多个光调制元件；照明系统，其使第1光、第2光分别沿着第1方向、第2方向入射到光调制元件阵列，其中，第1光具有相干性，第2光具有相干性且相对于第1光具有相位差；成像光学系统，其使光调制元件阵列所反射的第1光和第2光成像于图案形成面；以及曝光控制部，其根据图案数据控制多个光调制元件各自的姿势，多个光调制元件各自的姿势能够选取在第1位置和第2位置，第1位置使第1光向沿着成像光学系统的光...
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