技术编号：2709243
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种曝光描绘装置中的曝光描绘方法，该曝光描绘装置具有曝光单元，该曝光单元通过对具有第1面和与该第1面相对的第2面的被曝光基板进行曝光而描绘电路图案，曝光描绘方法进行如下步骤标记形成步骤，在被曝光基板的第2面的预先确定的位置上形成作为曝光位置的基准的第1标记，并且通过使相对于第1标记的相对位置在每个被曝光基板上不同，从而形成表示通过该相对位置识别被曝光基板的识别信息的第2标记；第1控制步骤，控制曝光单元在被曝光基板的第1面上描绘电路图案；以及存储步骤，将与第...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。