技术编号：2709365
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种尤其在EUV中运行的微光刻投射曝光设备的光学系统，包含至少一个偏振影响布置(100,200,...)，其具有第一反射表面(110,210,...)和第二反射表面(120,220,...)，其中该第一反射表面(110,210,...)和该第二反射表面(120,220,...)相对于彼此以0°±10°的角度或90°±10°的角度布置；其中在该光学系统运行期间入射在该第一反射表面(110,210,...)上的光与该第一反射表面形成45°±5°的角度...
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