技术编号：2710054
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。，包括在进行新试运行时，所预测的曝光能量参数参照同一设备的同工艺、同层间结构之曝光能量；在改变设备进行试运行时，所预测的曝光能量参数基于在每种设备上的曝光能量比例进行计算。在改变设备进行试运行时，其计算方法包括步骤S1罗列设备的曝光能量矩阵，以及光刻工艺中的工艺条件参数；步骤S2进行条件匹配，并基于所述条件下的曝光能量参数计算曝光能量参数参考值Dose_Ref（n）；步骤S3基于数据库中样本的曝光能量参数Dose_Ref（n）之权重Wt（n）和时间Day（...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。