技术编号：2710245
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种基于受激发射光损耗激光直写曝光装置，其特点在于其构成包括激发光源、退激发光源、第一空间光调制器、第二空间光调制器、二分之一波片组、二向色镜、相位型波带片、振幅型波带片、高数值孔径消色差物镜和三维扫描平台。本发明可实现高分辨、长焦深的光学曝光。专利说明基于受激光发射损耗的激光直写曝光装置[0001]本发明属于光学曝光领域，特别是一种基于受激光发射损耗的激光直写曝光装置。背景技术[0002]随着超大规模集成电路集成度的不断提高，作为集成电路制造关键技术的投...
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