技术编号：2710570
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种基于多次迭代刻蚀技术的透射型光学元件损伤阈值提升方法，该方法包括以下步骤采用高浓度氢氟酸溶液对光学元件进行快速刻蚀，刻蚀深度为d1；利用环形抛光机对光学元件进行快速抛光，抛光去除深度为d2；光学元件在300度高温下烘烤，然后利用离子源对光学元件表面进行轰击刻蚀，刻蚀深度为d3；再次低速抛光处理，抛光去除深度为d4；再次利用离子源对光学元件表面进行轰击刻蚀，刻蚀深度为d5。与现有技术相比，本发明具有针对性强、重复性好等优点，通过多次迭代刻蚀，特...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。