技术编号：2710682
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种掩模板、曝光方法和曝光设备。该掩模板包括基板，基板包括透光图案和不透光图案，还包括光线汇聚扩散单元，光线汇聚扩散单元与透光图案相对应设置，用于使入射至透光图案区域的入射光线经过汇聚扩散之后，出射光线的传播方向和照射范围与入射光线相同。该掩模板通过设置光线汇聚扩散单元，使入射光线经过汇聚和扩散后，转换为传播方向和照射范围均与入射光线相同的出射光线，从而大大减小了衍射现象的发生，提高了曝光精度。该曝光设备由于采用了该掩模板，从而提高了其曝光精度。...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。