技术编号：2710875
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了，包括在晶圆上进行采样，得到一组量测数据值；对量测数据值进行处理，过滤掉不可信的采样点的量测数据；基于处理过的量测数据值建立初始OPC模型，计算每个采样点的模型数据值的原始残余误差；利用原始残余误差的平方值或立方值得到修正后的残余误差均方根；利用修正后的残余误差均方根引导算法进行光学系统的模拟，从而得到修正后的OPC模型。本发明的方法，利用修正后的残余误差均方根来引导算法对光学系统做出有效的模拟，在模拟过程中有效地减小了模型整体的残余误差，从而...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。