技术编号：2710879
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。，通过设置两个或多个图形发生器，将不同的图形发生器按不同的角度放置，使得每个角度的斜线都能通过对应图形发生器中的水平或垂直直线像素进行显示，从而消除了原有的斜线上的锯齿现象，并保证了直线和斜线之间的线宽相等，提高了图形的线宽均匀性，使得光刻工艺的精度和品质得到改善。专利说明[0001]本发明涉及掩模版制备、无掩模光刻、激光直写，具体是。背景技术[0002]在半导体、平板显示、高密度印刷电路等行业，高精度微纳图形写入是关键的核心工艺流程之一，用于掩模版制备等...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。