技术编号：2711020
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开，其主要工艺流程包括选取基片，制作双层胶膜，紫外纳米压印获得光栅结构图形，利用等离子刻蚀去除底胶，再在胶图形上镀膜，最后去胶，获得设计光栅结构。本发明的优点是利用双层胶纳米压印技术结合剥离工艺，可快速获得金属或其它材料的光栅结构，该光栅结构具有不同周期和线宽的特点，图形传递利用剥离工艺，无需刻蚀金属或其它材料，避免了刻蚀工艺导致的图形保真度不好。专利说明[0001]本发明属于微纳加工，具体涉及一种基于双层胶纳米压印加工方法制作光栅结构彩色滤光膜。...
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