技术编号：2711270
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明，该光刻照明系统包括微反射镜阵列和微透镜阵列，具体过程为将设计光源和目标光源之间的均方根误差作为误差函数；同时改变所有光斑中心点在光瞳平面的位置；计算位置改变前后误差函数的变化量；基于模拟退火算法对所述变化量进行判断，确定所有光斑中心点在光瞳平面的位置；每次只改变一个光斑中心点在光瞳平面的位置，按照上述方式执行，直至所有光斑中心点在光瞳平面的位置都优化完为止；根据当前获得的所有光斑中心点在光瞳平面的位置，调节微反射镜的倾斜角，获取与目标光源相近的光刻...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。