技术编号：2711416
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明实施例提供了一种掩膜版、掩膜图案生成控制系统、掩膜系统及掩膜图案生成控制方法，上述的掩膜版，包括一能够透过曝光激励的本体，所述本体内形成有一图案形成腔，所述图案形成腔的底部为一水平面，所述本体上还设置有一用于容纳能够阻挡曝光激励透过的粉状物质的容纳腔，所述容纳腔与所述图案形成腔连通，使得所述粉状物质能够在一图案生成激励的作用下，进入所述图案形成腔，并在所述水平面上生成与待形成的电路图案相对应的掩膜图案。本发明降低了掩膜版的成本。专利说明掩膜版、掩膜图...
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