技术编号：2711905
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了，制作步骤如下（1）制备全息凹面光栅掩模；（2）在全息凹面光栅掩模上沉积金属层；（3）在所述金属层上涂布粘合剂；（4）将与凸模连接的金属层和所述全息凹面光栅掩模分离，清洗，获得凸面金属光栅掩模；（5）测量所述凸面金属光栅掩模的栅齿结构，获得栅齿占空比信息；采用电铸或镀膜的方式以及化学腐蚀或离子刻蚀的方式调节栅齿的占空比；（6）采用离子束刻蚀凸面金属光栅掩模，使凸面金属光栅掩模转变成三角形闪耀结构，得到全息凹面闪耀光栅的母板。本发明将凹面光栅掩模...
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