技术编号：2712304
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种，包括提供一基板；在所述基板上形成黑矩阵层；在形成有黑矩阵层的基板上，通过一掩模形成至少一第一滤光图案；在形成有所述黑矩阵以及所述第一滤光图案的基板上，通过所述掩模形成至少一第二滤光图案；在形成有所述黑矩阵、所述第一滤光图案以及所述第二滤光图案的基板上，通过所述掩模形成至少一第三滤光图案；其中，所述掩膜具有与所述第一滤光图案、所述第二滤光图案以及所述第三滤光图案分别对应的不同的透光光谱。专利说明[0001]本发明涉及，特别是涉及一种共用同一掩...
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