技术编号：2713195
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。，通过扫描电子显微镜对晶圆表面图形的关键尺寸进行量测并生成数据；扫描电子显微镜根据量测数据生成泊松曲线和图片矩阵，然后淘汰不可用的并保留可用的泊松曲线，剔除有图形倒塌等不合格的并保留合格的图片；最后扫描电子显微镜根据选择过的泊松曲线和图片矩阵，快速准确的报告出能量梯度、可用焦深、最佳能量和最佳焦距；本发明能够缩短光刻工艺中关键参数的判断和调整周期，实现在线快速准确确定最佳的光刻工艺窗口的大小，缩短获得光刻工艺窗口的时间，并提高光刻图形的质量。专利说明[00...
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